一国企已开始量产自主研发的DUV光刻机制造设备，长鑫存储或成为首批客户之一

Odaily 星球日报報道 The Information が関係筋の情報として伝えたところによると、中国国有資本の支援を受ける企業が自社開発の DUV（深紫外線）露光装置の量産を開始した。これは中国半導体産業における国産化代替の重要な進展である。

関係者によると、同社は 2026 年に約 5 台の DUV 露光装置を生産し、2027 年には約 20 台に拡大する計画である。オランダの露光装置大手 ASML（昨年は 131 台の液浸式 DUV 露光システムを納入）との生産能力差は依然としてあるものの、国産 DUV 装置の量産達成は、中国の半導体製造サプライチェーンが自律制御に向けてさらに前進したことを意味する。

関係筋によると、これらの国産 DUV 露光装置は、中芯国際（SMIC）、華虹半導体、そしてメモリーチップメーカーの長鑫存儲（CXMT）を含む中国の主要半導体メーカーに納入される予定である。

その中でも、長鑫存儲は中国の DRAM 産業を代表する企業として、国産の先進半導体製造装置の重要な導入先になると見込まれている。国産 DUV 装置が長鑫存儲などの生産ラインで安定稼働を実現できれば、中国の半導体メモリー産業の海外重要装置への依存度をさらに低減できることになる。