TSMC bê bối rò rỉ thông tin: Hai cựu kỹ sư liên quan lần lượt bị kết án 10 năm và 6 năm tù
Theo Odaily, báo cáo từ Đài Loan (Trung Quốc) cho biết bốn cựu kỹ sư của TSMC gồm Chen Li-ming, Wu Bing-jun, Ge Yi-ping và Chen Wei-jie đã bị Tòa án Sở hữu Trí tuệ và Thương mại Đài Loan xử sơ thẩm lần lượt kết án 10 năm, 3 năm, 2 năm và 6 năm tù vì tội đánh cắp và tiết lộ dữ liệu bí mật liên quan đến quy trình 2 nanomet. Chen Li-ming và Chen Wei-jie đã kháng cáo, nhưng Tòa án Tối cao Đài Loan vào ngày 30 đã bác bỏ kháng cáo, và cả hai sẽ bị đưa đi thi hành án ngay lập tức.
Báo cáo cho biết Wu Bing-jun và Ge Yi-ping đã không kháng cáo sau phán quyết sơ thẩm, và cơ quan công tố cũng không kháng cáo, do đó bản án dành cho họ đã có hiệu lực. Chen Li-ming, nguyên là kỹ sư năng suất tại Nhà máy 12 của TSMC, sau khi nghỉ việc đã chuyển sang làm việc tại bộ phận tiếp thị của "Tokyo Electron" Đài Loan, một nhà cung cấp thiết bị sản xuất chất bán dẫn cho TSMC. Để gây ấn tượng và giúp Tokyo Electron giành được nhiều hợp đồng cung cấp thiết bị hơn cho các quy trình tiên tiến của TSMC, anh ta đã nhiều lần lợi dụng mối quan hệ đồng nghiệp cũ với Wu, Ge, Chen và những người khác, yêu cầu ba người này chụp lại các tệp tin bí mật của TSMC. Bốn kỹ sư đã sử dụng máy tính xách tay công vụ của các kỹ sư vẫn đang làm việc tại TSMC để mở các tệp tin bí mật cho Chen Li-ming chụp lại, hoặc chụp và gửi cho Chen Li-ming. (Theo Global Times)
