芯片メーカーTower Semiconductor、日本に30億ドル投資へ

Odaily 星球日报の報道によると、半導体メーカー Tower Semiconductor は現地時間7月14日、**日本での半導体製造に30億ドルを投資**すると発表しました。この中には、日本政府からの10億ドルの助成金も含まれています。声明によると、第一段階では、**300mmシリコンフォトニクスデバイスの生産能力を大幅に増強**し、2027年第4四半期に本格稼働を開始する見込みです。この段階には、旧 Fab 6 工場を改造し、300mmシリコンフォトニクスデバイスの生産能力と高度なパッケージング能力を備えることが含まれます。第二段階は第一段階と同時に開始され、Fab 7 工場の隣に新しい300mmリソグラフィー製造工場を建設する計画です。